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随着DRAM技术的不断进步，SK海力士和三星电子等公司正在积极开发新材料的应用。据TheElec报道，SK海力士计划在其第6代（1c工艺，约10nm）DRAM生产中使用Inpria新一代金属氧化物光刻胶（MOR），这将是MOR首次应用于DRAM量产工艺。
消息人士透露，SK海力士生产的1c DRAM上有五个极紫外(EUV)层，其中一层将使用MOR进行绘制。他还补充说，“不仅SK海力士，三星电子也将寻求这种无机PR材料。”
公开资料显示，Inpria是日本化学公司JSR的子公司，在无机光刻胶领域具有领导地位。而MOR被认为是目前用于先进芯片光刻的化学放大光刻胶(CAR)的下一代产品。
据了解，该公司自2022年以来一直与SK海力士合作进行MOR研究。SK海力士此前表示，使用Sn（基）氧化物光刻胶将有助于提高下一代DRAM的性能并降低成本。
此外，《TheElec》还指出，三星电子也在考虑将MOR应用于1c DRAM。目前，三星电子在1c DRAM上应用了6至7个EUV层，而美光则只应用了1层。
这一发展趋势表明，在DRAM小尺寸化、高性能和低成本的要求下，厂商正积极寻求新的材料和技术来提升产品的竞争力。 | 
